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Nanofabbricazione

Sono disponibili sistemi di litografia alla nanoscala sia di tipo a fascio elettronico (EBL), che a luce UV (mask aligner e laser writer) che del tipo nano imprint lithography (NIL). Esistono sistemi di crescita per nanofili semiconduttori, materiali bidimensionali, film sottili metallici, semiconduttori, polimerici e ceramici, mediante tecniche quali CBE, CVD, PECVD, ALD, sputtering.

Strumentazione chiave: EBL, ICP-RIE, RIE, ALD, CBE, NIL, MASK ALIGNER, LASER WRITER, WEDGE BONDER, WAFER BONDER, SISTEMI DI DEPOSIZIONE PECVD, CVD, e di tipo SPUTTERING, E-BEAM
Persone chiave: Franco Carillo, Daniele Ercolani